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         頂點(diǎn)光電子商城2022年11月23日消息：近日，盛美上海通過(guò)線上會(huì)議舉行了科創(chuàng)板上市周年慶暨新品發(fā)布會(huì)，發(fā)布了前道涂膠顯影設(shè)備Ultra LITH。

        Ultra LITH設(shè)備采用自主全球?qū)＠Ｗo(hù)的全新系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，擁有穩(wěn)定的電控架構(gòu)及強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，且具可擴(kuò)張性，可以支持300 WPH及未來(lái)下一代高產(chǎn)出光刻機(jī)400 WPH的更高產(chǎn)出需求；搭載高速穩(wěn)定的機(jī)械手系統(tǒng)，多機(jī)械手協(xié)同配合，可實(shí)現(xiàn)晶圓傳輸路徑的優(yōu)化，提高傳輸效率。

         該設(shè)備用于前道300mm晶圓的涂膠顯影，具有4個(gè)12英寸裝載端口，8個(gè)涂膠腔和8個(gè)顯影腔，可進(jìn)一步擴(kuò)展到12個(gè)涂膠腔和12個(gè)顯影腔，適用于i-line、KrF和ArF等多種材料的涂膠顯影工藝。設(shè)備內(nèi)部氣流分布進(jìn)行了優(yōu)化處理，可減少顆粒污染，強(qiáng)大的清洗技術(shù)亦可支持未來(lái)浸沒(méi)式光刻機(jī)對(duì)硅片背面的顆粒清洗需求；此外，分區(qū)控制的高精度熱板由公司自主研發(fā)，已達(dá)到業(yè)界先進(jìn)水平。且該設(shè)備適配性強(qiáng)，支持主流的光刻機(jī)接口。

         盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司于2005年05月17日成立。法定代表人王暉，公司經(jīng)營(yíng)范圍包括：設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、加工電子專用設(shè)備及其零部件，銷(xiāo)售公司自產(chǎn)產(chǎn)品，并提供售后技術(shù)服務(wù)和咨詢服務(wù)等。在做企業(yè)的過(guò)程中，盛美上海始終堅(jiān)持技術(shù)差異化競(jìng)爭(zhēng)的策略，各項(xiàng)技術(shù)都在全球進(jìn)行了專利布局。多年來(lái)，盛美上海申請(qǐng)了960項(xiàng)以上發(fā)明專利，授權(quán)專利超過(guò)400項(xiàng)，也獲得了上海專利示范企業(yè)的榮譽(yù)。