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          近日，中微公司推出自主研發(fā)的12英寸低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)設(shè)備Preforma Uniflex? CW。

          該設(shè)備可靈活配置多達(dá)五個(gè)雙反應(yīng)臺(tái)反應(yīng)腔（十個(gè)反應(yīng)臺(tái)），每個(gè)反應(yīng)腔可以同時(shí)加工兩片晶圓，在保證較低的生產(chǎn)成本和化學(xué)品消耗的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)更高的生產(chǎn)效率。

          此外，該設(shè)備配備了完全擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的優(yōu)化混氣方案及加熱臺(tái), 具有優(yōu)秀的薄膜均一性、填充能力和工藝調(diào)節(jié)靈活性，對(duì)于彎曲度較大的晶圓，它也具備良好的工藝處理能力。并可以滿足先進(jìn)邏輯器件、DRAM和3D NAND中接觸孔以及金屬鎢線的填充應(yīng)用需求。

           中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司是一家以中國為基地、面向全球的微觀加工高端設(shè)備公司，為集成電路和泛半導(dǎo)體行業(yè)提供極具競(jìng)爭力的高端設(shè)備和高品質(zhì)的服務(wù)。

          中微開發(fā)的等離子體刻蝕設(shè)備和化學(xué)薄膜設(shè)備是制造各種微觀器件的關(guān)鍵設(shè)備，可加工微米級(jí)和納米級(jí)的各種器件。這些微觀器件是現(xiàn)代數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，它們正在改變?nèi)祟惖纳a(chǎn)方式和生活方式。