頂點光電子商城2024年4月18日消息：近日，ASML公司宣布發(fā)貨了其第二臺High NA EUV光刻機，這一成就不僅證明了ASML在高端光刻技術(shù)領(lǐng)域的持續(xù)領(lǐng)先地位，也進(jìn)一步推動了半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)革新。與此同時，該公司還宣布其首臺High NA EUV光刻機已成功印刷出10納米線寬圖案，這是整個高數(shù)值孔徑EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域的一項重大里程碑。
High NA EUV光刻機是ASML在光刻技術(shù)領(lǐng)域的最新創(chuàng)新，其采用了高數(shù)值孔徑的投影光學(xué)系統(tǒng)，使得光刻機能夠制造出更高密度的芯片，為半導(dǎo)體行業(yè)的未來發(fā)展打開了新的可能性。而成功印刷出10納米線寬圖案，則進(jìn)一步證明了這一技術(shù)的實際可行性和應(yīng)用前景。
第二臺High NA EUV光刻機的發(fā)貨，意味著這一技術(shù)正在逐步被市場接受并應(yīng)用于實際生產(chǎn)中。盡管ASML對買家的身份保持神秘，但業(yè)界普遍猜測，可能是英特爾、臺積電和三星等頂尖的半導(dǎo)體公司。這些公司一直在尋找能夠提高芯片制造效率和精度的技術(shù)，而High NA EUV光刻機無疑是他們的理想選擇。
值得一提的是，每臺High NA EUV光刻機的價格高達(dá)3億至3.5億歐元，這無疑證明了其在高端光刻機市場的獨特價值和競爭力。盡管價格高昂，但由于其帶來的巨大技術(shù)優(yōu)勢和商業(yè)價值，使得許多公司都愿意投入巨資進(jìn)行采購。
總的來說，ASML發(fā)貨第二臺High NA EUV光刻機并成功印刷10納米線寬圖案，是半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)革新的重要里程碑。這不僅證明了ASML在高端光刻技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位，也預(yù)示著整個半導(dǎo)體行業(yè)將迎來更加美好的未來。我們期待看到更多的技術(shù)創(chuàng)新和應(yīng)用，推動半導(dǎo)體行業(yè)的持續(xù)進(jìn)步和發(fā)展。
鄂公網(wǎng)安備 42011502001385號 鄂ICP備2021012849號 
