頂點(diǎn)光電子商城2024年12月23日消息：近日，日本先進(jìn)邏輯半導(dǎo)體制造商Rapidus宣布，其購入的首臺(tái)ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻機(jī)已在位于北海道千歲市的IIM-1晶圓廠完成交付并啟動(dòng)安裝。這一事件標(biāo)志著日本首次引入用于大規(guī)模生產(chǎn)尖端半導(dǎo)體的EUV（極紫外）光刻系統(tǒng)。
NXE:3800E是ASML EXE系列0.33（Low）NA EUV光刻機(jī)的最新型號，與0.55（High）NA EXE平臺(tái)共享部分組件，晶圓吞吐量較前款NXE:3600D提升37.5%。
Rapidus成為日本首家擁有EUV光刻機(jī)的公司，為日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)注入新的活力。此次引入的EUV光刻機(jī)能夠滿足Rapidus首代量產(chǎn)工藝2nm的制造需求，有助于提升日本在國際先進(jìn)半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的競爭力。Rapidus還計(jì)劃在IIM-1晶圓廠安裝一系列配套先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備以及全自動(dòng)材料處理系統(tǒng)，旨在實(shí)現(xiàn)2nm制程GAA（全環(huán)繞柵極）結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體的生產(chǎn)，這將進(jìn)一步推動(dòng)日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。
Rapidus已經(jīng)確認(rèn)IIM-1晶圓廠將于2025年4月啟動(dòng)試產(chǎn)，且該晶圓廠所有半導(dǎo)體制造設(shè)備均將采用“單晶圓工藝”Rapidus將在該模式下構(gòu)建名為RUMS（快速和統(tǒng)一制造服務(wù)）的新型半導(dǎo)體代工模式。
如果Rapidus試產(chǎn)2nm芯片順利，還計(jì)劃在接下來的第二間工廠內(nèi)采用1.4nm工藝，屆時(shí)預(yù)計(jì)將加大EUV光刻機(jī)的購買量。這將有助于Rapidus在未來幾年內(nèi)保持在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。
在光刻機(jī)交付安裝當(dāng)天，眾多重要人物出席了在北海道新千歲機(jī)場舉行的紀(jì)念儀式，包括Rapidus首席執(zhí)行官、日本政府代表、北海道及千歲市地方政府代表、ASML高管以及荷蘭駐日本大使等。Rapidus總裁兼首席執(zhí)行官表示：“我們非常高興能夠迎來這一里程碑式的時(shí)刻。通過引入ASML最先進(jìn)的EUV技術(shù)，我們將為客戶提供更高性能、更小尺寸的半導(dǎo)體解決方案?！?/span>
綜上所述，日本成功引入首臺(tái)ASML EUV光刻機(jī)對于提升日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的競爭力和技術(shù)水平具有重要意義。隨著Rapidus在IIM-1晶圓廠的試產(chǎn)和后續(xù)擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃的推進(jìn)，日本有望在全球半導(dǎo)體市場中占據(jù)更加重要的地位。
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